کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1652019 | 1007635 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Tris(dialkylamino)aluminums: Syntheses, characterization, volatility comparison and atomic layer deposition of alumina thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Tris(dialkylamino)aluminums: Syntheses, characterization, volatility comparison and atomic layer deposition of alumina thin films Tris(dialkylamino)aluminums: Syntheses, characterization, volatility comparison and atomic layer deposition of alumina thin films](/preview/png/1652019.png)
چکیده انگلیسی
The syntheses and characterization of both tris(diethylamino)aluminum and tris(diisopropylamino)aluminum are presented in this letter. Characterization includes vapor pressure measurements and comparison of the two non-pyrophoric precursors showing them to be viable alternatives to trimethylaluminum. Ultimately, tris(diisopropyl)aluminum was successful in the atomic layer deposition of alumina thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 61, Issue 29, December 2007, Pages 5079-5082
Journal: Materials Letters - Volume 61, Issue 29, December 2007, Pages 5079-5082
نویسندگان
Casey R. Wade, Carter Silvernail, Chiranjib Banerjee, Axel Soulet, James McAndrew, John A. Belot,