کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1791101 | 1524459 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of compressive strain relaxation on surface morphology in GaAsP growth on GaP substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Compressive strain in GaAs0.6P0.4 grown on GaP substrate was relaxed by plane slips. ⺠Compressive strain in GaAs grown on GaP substrate was relaxed by formation of island structures. ⺠GaAs surface is much flatter than that of GaAsP. ⺠Controlling of strain relaxation mechanism is a method to achieve planar surfaces. ⺠Different relaxation methods were explained by critical thickness and transition thickness models.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 370, 1 May 2013, Pages 204-207
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 370, 1 May 2013, Pages 204-207
نویسندگان
Xiuguang Jin, Shingo Fuchi, Yoshikazu Takeda,