کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1791748 | 1023620 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth mechanisms and defect structures of B12As2 epilayers grown on 4Â H-SiC substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Epitaxial growth of icosahedral B12As2 on c-plane 4H-SiC substrates has been analyzed. ⺠Twinned B12As2 was revealed on on-axis c-plane 4H-SiC substrates. ⺠B12As2 grown on c-plane 4H-SiC misoriented from (0001) to [1-100] is shown to be free of twinning. ⺠Vicinal steps formed by hydrogen etching on off-axis 4H-SiC cause the film to adopt a single orientation. ⺠C-plane 4H-SiC offcut toward [1-100] is a good substrate for the growth of single crystalline B12As2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 352, Issue 1, 1 August 2012, Pages 3-8
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 352, Issue 1, 1 August 2012, Pages 3-8
نویسندگان
Yu Zhang, Hui Chen, Michael Dudley, Yi Zhang, J.H. Edgar, Yinyan Gong, Silvia Bakalova, Martin Kuball, Lihua Zhang, Dong Su, Yimei Zhu,