کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1794322 | 1023695 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of laser fluence on the microstructure and dielectric properties of pulsed laser-deposited CaCu3Ti4O12 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Polycrystalline CaCu3Ti4O12 (CCTO) films were grown on Pt/Ti/SiO2/Si substrates using pulsed laser deposition. The choice of optimal laser fluence was found to be important to the microstructure and dielectric properties of CCTO films. Thin films with a (2Â 2Â 0) preferential orientation were obtained in a narrow fluence range of 1.8-2.0Â J/cm2. Moreover, the CCTO films deposited at 2.0Â J/cm2 showed high dielectric constant (2474) and low dielectric loss (0.05) at 10Â kHz, which was ascribed to the improved crystallinity.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 15, 15 July 2008, Pages 3470-3473
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 310, Issue 15, 15 July 2008, Pages 3470-3473
نویسندگان
Liang Fang, Mingrong Shen,