کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1795062 | 1023713 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of titanium dioxide nanostructures using carbon nanosheets as a template
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Nanostructured films of anatase TiO2 is deposited on carbon nanosheet (CNS) templates using atomic layer deposition (ALD). The high-surface area of the CNS together with the unique step coverage of the ALD process makes it possible to obtain sheet-like TiO2 nanostructures, for use in potential applications, e.g. photocatalysis and photovoltaics. A problem with ALD on CNS was the low nucleation rate giving TiO2 films with pinholes. It is shown that introduction of defects by an acid-treatment process can be used to control initial nucleation and growth of the films. The TiO2 on the defect-rich CNS nucleates faster and results in a film with no observable pinholes consisting of crystalline grains in an amorphous matrix.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 311, Issue 2, 1 January 2009, Pages 373–377
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 311, Issue 2, 1 January 2009, Pages 373–377
نویسندگان
Mårten Rooth, Ronald A. Quinlan, Erika Widenkvist, Jun Lu, Helena Grennberg, Brian C. Holloway, Anders Hårsta, Ulf Jansson,