کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1796425 | 1023744 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of film growth conditions on carrier mobility of hot wall epitaxially grown fullerene based transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Hot wall epitaxially grown C60 based organic field-effect transistors (OFETs) show relatively high electron mobilities of 0.4–1 cm2/Vs. We report results of thin film grown with various growth conditions such as preheating and initial substrate temperatures resulting in strikingly different fullerene film nanomorphology. The mobility is enhanced up to 3 cm2/Vs for films grown at a substrate temperatures of 130 °C. This improvement in the mobility is explained in terms of a transition from a disordered interface consisting of small-elongated grains to a well-ordered C60 film with bigger and rounder grains.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 288, Issue 1, 2 February 2006, Pages 123–127
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 288, Issue 1, 2 February 2006, Pages 123–127
نویسندگان
A. Montaigne Ramil, Th.B. Singh, N.T. Haber, N. Marjanović, S. Günes, A. Andreev, G.J. Matt, R. Resel, H. Sitter, S. Sariciftci,