کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1811943 1025604 2011 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Cu-In-O composite thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه فیزیک و نجوم فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Cu-In-O composite thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering
چکیده انگلیسی
►Cu-In-O composite thin films were fabricated by DC sputtering at room temperature. ►The films are made of rhombohedral In2O3 and monoclinic CuO. ►The transmittance depends on the Cu content in the film. ►The direct optical band gap is around 4.1-4.4eV. ►The conducting mechanism is due to oxygen vacancy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica B: Condensed Matter - Volume 406, Issue 3, 1 February 2011, Pages 516-519
نویسندگان
, , , , , , ,