کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1811943 | 1025604 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Cu-In-O composite thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
âºCu-In-O composite thin films were fabricated by DC sputtering at room temperature. âºThe films are made of rhombohedral In2O3 and monoclinic CuO. âºThe transmittance depends on the Cu content in the film. âºThe direct optical band gap is around 4.1-4.4eV. âºThe conducting mechanism is due to oxygen vacancy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica B: Condensed Matter - Volume 406, Issue 3, 1 February 2011, Pages 516-519
Journal: Physica B: Condensed Matter - Volume 406, Issue 3, 1 February 2011, Pages 516-519
نویسندگان
Fan Ye, Xing-Min Cai, Fu-Ping Dai, Shou-Yong Jing, Dong-Ping Zhang, Ping Fan, Li-Jun Liu,