کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
187030 | 459632 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fast electroless fabrication of uniform mesoporous silicon layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We present a new route for the fabrication of mesoporous silicon using Pt nanoparticle-assisted chemical etching. In contrast to stain etching, the mesoporous silicon films show good uniformity. The porosity and thickness can be tuned well via adjusting the HF and H2O2 concentration. Etching rates of more than 1.7 μm/min have been obtained under optimized conditions. The charge transfer through the Pt–Si nano-Schottky contact was simulated to qualitatively explain the observed phenomenon. Our approach will allow a much simpler and cheaper route to fabricate mesoporous silicon layers compared to electrochemical etching as used in the area of surface micromachining and layer transfer techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 94, 1 April 2013, Pages 57–61
Journal: Electrochimica Acta - Volume 94, 1 April 2013, Pages 57–61
نویسندگان
Xiaopeng Li, Yanjun Xiao, Chenglin Yan, Jae-Won Song, Vadim Talalaev, Stefan L. Schweizer, Katarzyna Piekielska, Alexander Sprafke, Jung-Ho Lee, Ralf B. Wehrspohn,