کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
194076 | 459784 | 2007 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pulsed electrodeposition of bismuth telluride films: Influence of pulse parameters over nucleation and morphology
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Pulsed electrodeposition methods were applied to the preparation of bismuth telluride films. Over the potential ranges from −170 mV to −600 mV, the formation of Bi2Te3 nuclei proceeded through a three-dimensional instantaneous nucleation mode. The nuclei densities for several values of potential were ranged between ∼106 nuclei cm−2 and ∼108 nuclei cm−2. For a pulsed galvanostatic electroplating, the best covering percentage and a stoichiometry close to the desired Bi2Te3 were obtained with the parameters ton, toff and Jc, respectively, equal to 10 ms, 1000 ms and −100 mA cm−2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 52, Issue 9, 15 February 2007, Pages 3053–3060
Journal: Electrochimica Acta - Volume 52, Issue 9, 15 February 2007, Pages 3053–3060
نویسندگان
V. Richoux, S. Diliberto, C. Boulanger, J.M. Lecuire,