| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 4970786 | 1450300 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study of sigma-shaped source/drain recesses for embedded-SiGe pMOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 181, 5 September 2017, Pages 22-28
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 181, 5 September 2017, Pages 22-28
نویسندگان
Changliang Qin, Huaxiang Yin, Guilei Wang, Peizhen Hong, Xiaolong Ma, Hushan Cui, Yihong Lu, Lingkuan Meng, Haizhou Yin, Huicai Zhong, Jiang Yan, Huilong Zhu, Qiuxia Xu, Junfeng Li, Chao Zhao, Henry H. Radamson,