کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970805 1450303 2017 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of gate impedance on dielectric breakdown evaluation for 28 nm FDSOI transistors
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Impact of gate impedance on dielectric breakdown evaluation for 28 nm FDSOI transistors
چکیده انگلیسی
The figure shows normal distribution of the OFF-current before and after breakdown in 28 nm FDSOI transistors, where Rg play an important role by controlling the gate current leakage after breakdown.343
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 21-25
نویسندگان
, , , , , ,