کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970805 | 1450303 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of gate impedance on dielectric breakdown evaluation for 28Â nm FDSOI transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The figure shows normal distribution of the OFF-current before and after breakdown in 28Â nm FDSOI transistors, where Rg play an important role by controlling the gate current leakage after breakdown.343
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 21-25
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 21-25
نویسندگان
Amer Diab, Xavier Garros, Mustapha Rafik, Xavier Federspiel, Emmanuel Vincent, Gilles Reimbold,