کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970811 | 1450303 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimizing process conditions for improved Hf1 â xZrxO2 ferroelectric capacitor performance
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 48-51
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 48-51
نویسندگان
Terence Mittmann, Franz P.G. Fengler, Claudia Richter, Min Hyuk Park, Thomas Mikolajick, Uwe Schroeder,