کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970837 | 1450303 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electronic transport parameters of indium zinc oxide thin films after Al2O3/HfO2 top-dielectric formation annealing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Electronic transport parameters of indium zinc oxide thin films after Al2O3/HfO2 top-dielectric formation annealing Electronic transport parameters of indium zinc oxide thin films after Al2O3/HfO2 top-dielectric formation annealing](/preview/png/4970837.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 164-167
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 164-167
نویسندگان
G.A. Umana-Membreno, Y. Song, N.D. Akhavan, J. Antoszewski, D.C. Paine, A. Zaslavsky, L. Faraone,