کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970837 1450303 2017 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electronic transport parameters of indium zinc oxide thin films after Al2O3/HfO2 top-dielectric formation annealing
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Electronic transport parameters of indium zinc oxide thin films after Al2O3/HfO2 top-dielectric formation annealing
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 164-167
نویسندگان
, , , , , , ,