کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970853 1450303 2017 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Hole trapping in amorphous HfO2 and Al2O3 as a source of positive charging
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Hole trapping in amorphous HfO2 and Al2O3 as a source of positive charging
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 235-239
نویسندگان
, , , ,