کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970879 1450302 2017 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
New alignment mark designs in single patterning and self-aligned double patterning
ترجمه فارسی عنوان
طرح های علامت گذاری به ترتیب جدید در الگوی تک خطی و دو خط الگوی خود تنظیم شده است
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
طرح های علامت گذاری به ترتیب جدید در الگوی تک خطی و دو خط الگوی خود تنظیم شده است
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 179, 5 July 2017, Pages 18-24
نویسندگان
, , , , ,