کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970969 | 1450310 | 2017 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The effect of the second annealing step on the Ni1-xPtx:Si film thermal stability
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 171, 5 March 2017, Pages 44-52
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 171, 5 March 2017, Pages 44-52
نویسندگان
X. Pagès, R. Binder, K. Vanormelingen, M. Smits, E. Granneman, M. Weisheit, K. Dittmar, S. Jansen, J. Rinderknecht,