کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970969 1450310 2017 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The effect of the second annealing step on the Ni1-xPtx:Si film thermal stability
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The effect of the second annealing step on the Ni1-xPtx:Si film thermal stability
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 171, 5 March 2017, Pages 44-52
نویسندگان
, , , , , , , , ,