| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 4971122 | 1450315 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Acceleration of e-beam lithography by minimized resist exposure for large scale nanofabrication
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Acceleration of e-beam lithography by minimized resist exposure for large scale nanofabrication177
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 166, 1 December 2016, Pages 31-38
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 166, 1 December 2016, Pages 31-38
نویسندگان
Jie Deng, Ten It Wong, Ling Ling Sun, Chenggen Quan, Xiaodong Zhou,