کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5006055 | 1461382 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electron-optical sectioning for three-dimensional imaging of crystal defect structures
ترجمه فارسی عنوان
بخش بندی الکترونی نوری برای تصویربرداری سه بعدی از ساختارهای نقص کریستال
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
میکروسکوپ الکترونی، نقص در نیمه هادی ها، تصویربرداری با وضوح اتمی، تصویربرداری سه بعدی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
چکیده انگلیسی
The depth of field of an optical imaging system is proportional to the inverse square of the numerical aperture. The development of electron-optical devices to correct for the inherent spherical aberration of electron optics has led to a dramatic increase in numerical aperture that therefore also result in dramatic reductions in depth of field. The depth of field of a state-of-the-art system may now reach below 5Â nm. An opportunity is therefore created to measure three-dimensional information about a sample by focusing on specific layers within the sample, a process known as optical sectioning. In this short review, we examine some of the properties of the technique, and illustrate its use with a range of applications to semiconducting materials that have been presented in the literature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 65, July 2017, Pages 18-23
Journal: Materials Science in Semiconductor Processing - Volume 65, July 2017, Pages 18-23
نویسندگان
Peter D. Nellist,