کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5010449 | 1462208 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low-frequency noise in bare SOI wafers: Experiments and model
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Low-frequency noise (LFN) measurements are largely used for interface quality characterization in MOSFETs. In this work, a detailed investigation of LFN technique applied to pseudo-MOSFETs in bare silicon-on-insulator (SOI) substrates is provided. A physical model capable to describe the experimental results is proposed and validated using different die areas and inter-probe distances. The effective silicon area contributing to the noise signal, the impact of defects induced by probes and the possibility to extract interface trap density are addressed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 125, November 2016, Pages 167-174
Journal: Solid-State Electronics - Volume 125, November 2016, Pages 167-174
نویسندگان
L. Pirro, I. Ionica, S. Cristoloveanu, G. Ghibaudo,