کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5140768 | 1495765 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Rapid reagent-less on-line H2O2 quantification in alkaline semiconductor etching solution
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی آنالیزی یا شیمی تجزیه
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A rapid, reagent-less calorimetric method was developed for automatic on-line H2O2 quantification in industrial alkaline semiconductors etching solution. The method is based on the H2O2 catalytic decomposition by immobilized MnO2 generating heat proportional to its concentration and the employment of the Temperature-Time curve slope as a measure of the concentration.192
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Talanta - Volume 171, 15 August 2017, Pages 39-44
Journal: Talanta - Volume 171, 15 August 2017, Pages 39-44
نویسندگان
Roumen Zlatev, Margarita Stoytcheva, Benjamin Valdez, Rojelio Ramos,