کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
538888 | 1450320 | 2016 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
X-ray lithography: Some history, current status and future prospects
ترجمه فارسی عنوان
لیتوگرافی اشعه ایکس: برخی از تاریخ، وضعیت فعلی و چشم انداز آینده
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
In this article we provide a brief history of some of the world's major efforts in X-ray lithography. We discuss the limitations and advantages of this approach in a variety of applications. These include the printing of mask layers in very-large-scale integrated circuits, the manufacture of high aspect ratio structures as a kind of “micro-3D printer,” and the possible use of the technique for imaging on non-planar surfaces. We conclude with a discussion of the potential future of the approach in microlithography.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 161, 1 August 2016, Pages 87–93
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 161, 1 August 2016, Pages 87–93
نویسندگان
Juan R. Maldonado, Martin Peckerar,