کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5395173 | 1505656 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
DFT studies on the insertion reactions of silylenoid into Si-X bonds (XÂ =Â F, Cl, Br)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The insertion reactions of the silylenoid H2SiLiF into Si-X bonds (XÂ =Â F, Cl, Br) have been studied by ab initio and DFT calculations. The results indicate that the insertions proceed in a concerted manner, forming H2SiXCH3 and LiF. The essence of these reactions are the donations of the electrons of X into the p orbital on the Si atom in H2SiLiF and the Ï electrons on the Si atom in H2SiLiF to the positive SiH3 group. The order of reactivity by H2SiLiF insertion indicates the reaction barriers increase for the same-family element X from top down in the periodic table. All the insertions are exothermic reactions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Computational and Theoretical Chemistry - Volume 969, Issues 1â3, 30 August 2011, Pages 61-65
Journal: Computational and Theoretical Chemistry - Volume 969, Issues 1â3, 30 August 2011, Pages 61-65
نویسندگان
Yuhua Qi, Zhonghe Chen, Ping Li,