کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
539741 | 1450393 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Soft-lithographic methods for the fabrication of dielectrophoretic devices using molds by proton beam writing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Proton beam writing (PBW) was applied to the fabrication of dielectrophoretic (DEP) devices equipped with high-aspect-ratio pillar arrays. With coupled use of soft lithography for micro-fluidic channels, we successfully fabricated a device equipped with SU-8 pillar arrays produced by PBW, which is covered with a poly-dimethylsiloxane (PDMS) micro-fluidic channel. For more simplified prototyping of the device, we modified a SU-8 mold for simultaneous replication of both pillar arrays and micro-fluidic channel on PDMS. Replication of pillar arrays is limited to the aspect ratio of less than three.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issues 5–8, May–August 2010, Pages 835–838
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issues 5–8, May–August 2010, Pages 835–838
نویسندگان
Y. Shiine, H. Nishikawa, Y. Furuta, K. Kanamitsu, T. Satoh, Y. Ishii, T. Kamiya, R. Nakao, S. Uchida,