کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5397469 | 1392643 | 2017 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-Q whispering gallery microdisk resonators based on silicon oxynitride
ترجمه فارسی عنوان
رزوناتورهای میکرو دیزل سرپوشیده با کیفیت بالا بر اساس سیلیکون اکسینیرید
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
In this article we demonstrate a fully CMOS compatible fabrication process for the realization of microdisk resonators based on silicon oxynitride. The layer fabrication using plasma enhanced chemical vapor deposition is optimized in terms of surface roughness and internal material absorption. Resulting surface roughness due to the etching process is reduced by using optimized etching parameters. Whispering gallery modes of the fabricated microdisk resonators have been investigated by tapered fiber coupling and show quality factors as high as 106.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Luminescence - Volume 191, Part B, November 2017, Pages 131-134
Journal: Journal of Luminescence - Volume 191, Part B, November 2017, Pages 131-134
نویسندگان
T. Hett, S. Krämmer, U. Hilleringmann, H. Kalt, A. Zrenner,