کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
539772 | 1450393 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of nano-scaled patterns on ceramic thin films and silicon substrates by soft ultraviolet nanoimprint lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Soft ultraviolet nanoimprint lithography is a cost-effective and versatile technique for the transfer of nano-scaled patterns to various surfaces. Here, we report on the fabrication of sub-micron square pillar arrays in epitaxial Ba0.7Sr0.3TiO3 ceramic films, using a combination of nanoimprint lithography and inductively coupled plasma etching techniques. Based on a similar approach we have also succeeded in preparing positive (direct) and negative (inverse) replicas of silicon master molds. Such a generic process could find application in various materials.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issues 5–8, May–August 2010, Pages 959–962
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issues 5–8, May–August 2010, Pages 959–962
نویسندگان
K.L. Jim, F.K. Lee, J.Z. Xin, C.W. Leung, H.L.W. Chan, Y. Chen,