کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540047 | 1450398 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Polarized illuminator impact on line edge roughness
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A study has been completed to investigate the imaging performance with the industry standard 6% attenuated phase shift mask. Several test structures were used to investigate the effects on line edge roughness (LER) based on the polarization state of the illuminator. The use of a high NA (>1 NA) immersion exposure system was employed to study the imaging characteristics.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 5–8, May–August 2007, Pages 746–749
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 5–8, May–August 2007, Pages 746–749
نویسندگان
Arjan Verhappen, Jan Pieter Kuijten, Will Conley, Martin Chaplin, Paul van der Vleuten, Stephan van der Goor, Lloyd Litt, Bryan Kasprowicz,