کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
540227 871294 2006 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ etch treatment of bulk surface for epitaxial layer growth optimization
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
In situ etch treatment of bulk surface for epitaxial layer growth optimization
چکیده انگلیسی
The etched surfaces show a significant defect density reduction and present a good surface morphology.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issue 1, January 2006, Pages 82-85
نویسندگان
, , , , , , , , , ,