کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540227 | 871294 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ etch treatment of bulk surface for epitaxial layer growth optimization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The etched surfaces show a significant defect density reduction and present a good surface morphology.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issue 1, January 2006, Pages 82-85
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issue 1, January 2006, Pages 82-85
نویسندگان
C.F. Pirri, S. Ferrero, L. Scaltrito, D. Perrone, S. De Angelis, M. Mauceri, S. Leone, G. Pistone, G. Abbondanza, D. Crippa,