کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540432 | 871311 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
UV-nanoimprinting using non-transparent molds and non-transparent substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A new ultraviolet assisted nanoimprint lithography technique with an exposure through non-transparent molds and a nm-resolution capability is reported. The UV imprint material was not cured by direct irradiation, but substantially exposed to indirect and diffuse irradiation. The nanoimprint molds consisted of a transparent support and a non-transparent, patterned element. Successful imprints were conducted on transparent glass and polymer foils placed on non-transparent substrate holders as well as on SiO2 on Si. The reported technique enables the application of non-transparent mold materials like Si, new mold materials and alternative antisticking layers like metals in UV-NIL.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 88, Issue 8, August 2011, Pages 2004–2008
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 88, Issue 8, August 2011, Pages 2004–2008
نویسندگان
R. Kirchner, A. Finn, L. Teng, M. Ploetner, A. Jahn, L. Nueske, W.-J. Fischer,