کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540893 | 1450400 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
EUV multilayer optics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: EUV multilayer optics EUV multilayer optics](/preview/png/540893.png)
چکیده انگلیسی
According to the optics requirements of an EUVL tool, the accurate deposition of high reflective and laterally graded multilayers on ultraprecise polished substrates can be regarded as one of the major challenges of EUV lithography development today. To meet these requirements, a new dc magnetron sputtering system NESSY and technologies to coat laterally graded EUV multilayers on curved optics were developed. The major characteristics of the deposition tool and results of sputtered multilayer optics are presented in this paper.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 703–706
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 703–706
نویسندگان
Torsten Feigl, Sergiy Yulin, Nicolas Benoit, Norbert Kaiser,