کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540901 | 1450400 | 2006 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Present status and future prospects of LEEPL
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Present status and future prospects of LEEPL Present status and future prospects of LEEPL](/preview/png/540901.png)
چکیده انگلیسی
Intensive efforts to develop LEEPL tools and to build the infrastructure supporting LEEPL technology have been made since the concept of LEEPL was first published in 1999. As a result, LEEPL has been recently gaining recognition as a potential solution for future lithography in semiconductor industry. Here, LEEPL's present status and future prospects are presented on the basis of these efforts.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4â9, AprilâSeptember 2006, Pages 738-748
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4â9, AprilâSeptember 2006, Pages 738-748
نویسندگان
Takao Utsumi,