کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540952 | 1450400 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low energy electron beam microcolumn lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A compact sized low energy microcolumn system has been developed for mask-less lithography application. The microcolumn has high throughput capabilities as well as high resolution using arrayed microcolumn structures. A number of arrayed microcolumn structures have been studied based on single column modules, monolithic column module, and wafer-scale column module. In this paper, a review of microcolumn studies and recent results of sub-60 nm line patterning in advanced low energy microcolumn operation is presented.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 962–967
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 962–967
نویسندگان
Ho Seob Kim, Young Chul Kim, Dae-Wook Kim, Seung Joon Ahn, Yong Jang, Hyung Woo Kim, Do Jin Seong, Kyoung Wan Park, Seong Soon Park, Byung Jin Kim,