کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540962 | 1450400 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Simulation of DOE fabrication using DMD-based gray-tone lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Digital-multi-micromirror device (DMD)-based photolithography technique is a promising tool for the fabrication of microstructure. In this paper an imaging model was developed for describing its complicated imaging process, and then the fabrication processes of some typical diffractive optical elements (DOEs) were simulated. The simulated results demonstrate that the DMD-based lithography technique allows to realize a wide variety of microoptical elements, e.g., Dammann grating, Fresnel lens, beam shaping element or refractive microstructures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 1012–1016
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issues 4–9, April–September 2006, Pages 1012–1016
نویسندگان
Xiaowei Guo, Jinglei Du, Yongkang Guo, Chunlei Du, Zheng Cui, Jun Yao,