کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
541500 | 1450395 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
FIB sputtering optimization using Ion Reverse Software
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
This paper experimentally demonstrates that a quantitative description of focused ion beam (FIB) milling (at least for several 3D profiles with inclination not higher than 45°) can be done by means of an isotropic local etching model. Specific characteristic of this model is that it does not account for re-deposition.The paper also presents IonRevSim – Software developed specifically for data preparation and prediction of the shape of the FIB machined structures. Those functions and their operating modes are discussed here in detail and FIB experimental results are provided to verify the algorithms embedded in the software.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 544–547
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 544–547
نویسندگان
A. Svintsov, S. Zaitsev, G. Lalev, S. Dimov, V. Velkova, H. Hirshy,