کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
541529 | 1450395 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
UV nanoimprint lithography with rigid polymer molds
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Transparent polymers are considered as alternative low-cost mold materials in UV nanoimprint lithography (UV-NIL). Here, we demonstrate a nanoimprint process with molds made of rigid polymers novel for this application. These polymer molds are found to show high performance in the patterning with UV-NIL. Sub-50 nm structures were fabricated with this process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 661–664
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 661–664
نویسندگان
Sandra Gilles, Matthias Meier, Michael Prömpers, Andre van der Hart, Carsten Kügeler, Andreas Offenhäusser, Dirk Mayer,