کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543084 | 871628 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multilayers of Ge nanocrystals embedded in Al2O3 matrix: Structural and electrical studies
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this paper, Ge/Al2O3 multilayer systems were grown by pulsed laser ablation. The grown samples were annealed at 900 °C to promote the formation of Ge nanocrystals. Rutherford backscattering spectroscopy and transmission electron microscopy confirmed the presence of a multilayer system. Grazing incidence small angles X-ray scattering technique demonstrates the formation of Ge nanoclusters formed between alumina layers. Room temperature I–V measurements showed weak carrier trapping in the system. This was explained by the leakage caused by Ge diffusion through the multilayer.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issue 12, December 2010, Pages 2508–2512
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 87, Issue 12, December 2010, Pages 2508–2512
نویسندگان
S.R.C. Pinto, A.G. Rolo, A. Chahboun, Maja Buljan, A. Khodorov, R.J. Kashtiban, U. Bangert, N.P. Barradas, E. Alves, S. Bernstorff, M.J.M. Gomes,