کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5431918 | 1508825 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Large magnetoresistance of amorphous carbon films
ترجمه فارسی عنوان
مقاومت مغناطیسی بزرگ فیلم های کربن آمورف
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
مقاومت مغناطیسی؛ کربن آمورف؛ پرش دامنه متغیر؛ طول محلی سازی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی (عمومی)
چکیده انگلیسی
Magnetoresistance (MR) of pure amorphous carbon thin films deposited by pulsed laser deposition at various deposition temperatures was studied. Maximum MR of 46% was observed at 2 K under the magnetic field of 7 T for the sample deposited at temperature of 500 °C. No tendency of MR saturation was observed up to 7 T. The MR decreases rapidly with the increase in measurement temperature and vanishes after 40 K. The transport mechanism of all the samples follow Efros-Shklovskii variable range hopping model. The characteristics temperature decreasing from 2540 K to 1290 K and localization length increasing from 5.3 nm to 10.7 nm with increasing fraction of C(sp2) from 72% to 84%. The lower disorder degree may results in higher MR.
197
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Carbon - Volume 122, October 2017, Pages 122-127
Journal: Carbon - Volume 122, October 2017, Pages 122-127
نویسندگان
Awais Siddique Saleemi, Rajan Singh, Wen Sun, Zhaochu Luo, Xiaozhong Zhang,