کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543672 | 1450396 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of high-resolution contact printing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
This paper presents experimental results and simulation studies of resist processes for contact printing. A resolution of 200 nm can be achieved using simple binary masks, conventional photoresist, and standard mercury arc lamp illumination. Simulation helps to understand typical resist artifacts in dense structures, and allows the design of optimal masks and process conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 744–748
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 744–748
نویسندگان
B. Meliorisz, S. Partel, T. Schnattinger, T. Fühner, A. Erdmann, P. Hudek,