کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
543672 1450396 2008 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of high-resolution contact printing
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Investigation of high-resolution contact printing
چکیده انگلیسی

This paper presents experimental results and simulation studies of resist processes for contact printing. A resolution of 200 nm can be achieved using simple binary masks, conventional photoresist, and standard mercury arc lamp illumination. Simulation helps to understand typical resist artifacts in dense structures, and allows the design of optimal masks and process conditions.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 744–748
نویسندگان
, , , , , ,