کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543674 | 1450396 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
193 nm interference nanolithography based on SPP
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Large-area surface plasmon polariton interference lithography (LSPPIL) is a promising nano-fabrication technique for making periodic nano-patterns. In this paper, for reducing further the feature size of a lithography pattern, we propose to use 193 nm illumination wavelength in LSPPIL and replace the silver coating by tungsten. Theoretical analysis and preliminary numerical simulations indicate that 193 nm-LSPPIL can produce periodic patterns with a critical dimension as small as 30 nm with high contrast and enough long exposure depth. 193 nm interference nanolithography based on SPP has the potential to realize the 32 nm node periodic nano-structure manufacture.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 754–757
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 754–757
نویسندگان
Wei Xiong, Jinglei Du, Liang Fang, Xiangang Luo, Qiling Deng, Chunlei Du,