کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543963 | 1450397 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Impact of weak Fermi-level pinning on the correct interpretation of III-V MOS C-V and G-V characteristics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The commonly encountered frequency dispersion and distorted behavior of GaAs and III-V MOS C-V and G-V is clarified by using MOS interface state theory. The relation of the C-V behavior with Fermi-level pinning of III-V MOS is explained. It is shown why it is difficult to quantify the interface state density using the conductance method for III-V MOS. A qualitative distinction of interface state behavior from common frequency dispersion due to series resistance is also put forward and guidelines are given to properly interpret III-V admittance data.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 9–10, September–October 2007, Pages 2146-2149
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 9–10, September–October 2007, Pages 2146-2149