کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
544077 | 871704 | 2006 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Simulation of nanoscale MOSFETs using modified drift-diffusion and hydrodynamic models and comparison with Monte Carlo results
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The dc behavior of single-gate and double-gate MOSFETs with gate lengths ranging from 5 to 100 nm is simulated using drift-diffusion, hydrodynamic, and Monte Carlo approaches. It is shown that by simple adjustments of the drift-diffusion and hydrodynamic transport model parameters the Monte Carlo currents can be reproduced in the entire gate length range. The suitability of the different simulation methods for the simulation of nanometer MOSFETs is briefly discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issue 2, February 2006, Pages 241–246
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 83, Issue 2, February 2006, Pages 241–246
نویسندگان
R. Granzner, V.M. Polyakov, F. Schwierz, M. Kittler, R.J. Luyken, W. Rösner, M. Städele,