کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
544480 | 871766 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology Ultradense silicon nanowire arrays produced via top-down planar technology](/preview/png/544480.png)
چکیده انگلیسی
A process is developed for the fabrication of vertically arranged poly-silicon nanowires via a rigorously top-down batch process. The technique allows the production of wire arrays with larger linear density (projected on the surface) than those achievable with any of the other proposed top-down processes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 88, Issue 6, June 2011, Pages 877–881
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 88, Issue 6, June 2011, Pages 877–881
نویسندگان
M. Ferri, F. Suriano, A. Roncaglia, S. Solmi, G.F. Cerofolini, E. Romano, D. Narducci,