کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
544915 | 871794 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A resist for electric imprint lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: A resist for electric imprint lithography A resist for electric imprint lithography](/preview/png/544915.png)
چکیده انگلیسی
An electrically curable resist has been developed that can make electric imprint lithography (EIL) a reality. The resist is composed of a diaryliodonium salt photo acid generator and a cycloaliphatic epoxy monomer. Its polymerization takes place when an electric potential is applied between a conductive imprint mold and a substrate which sandwich the resist. A proof-of-concept pattern transfer by EIL with a micron-scale resolution has been demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issue 3, March 2009, Pages 392–396
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issue 3, March 2009, Pages 392–396
نویسندگان
Yong Sik Ahn, Yong Chen, H. Thomas Hahn,