کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5465334 | 1398871 | 2016 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication and characterization of p-CuS/n-GaN thin film heterojunction diodes
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The p-CuS/n-GaN heterojunctions were fabricated successfully using RF magnetron sputtering. It was found that the properties of CuS films with annealing treatment were superior to non-annealed ones through various tests of SEM, XRD, Raman, EDS, and absorption spectrum. The optical band-gap slightly increased after annealing treatment. The current-voltage (I-V) characteristics of p-CuS/n-GaN heterojunction were measured and showed well-defined rectifying behavior for the annealed device.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 307, Part B, 15 December 2016, Pages 1024-1028
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 307, Part B, 15 December 2016, Pages 1024-1028
نویسندگان
Lunjuan Li, Jian Huang, Weichuan Yang, Ke Tang, Bing Ren, Haitao Xu, Linjun Wang,