کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6533895 1420638 2018 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Passivation property of ultrathin SiOx:H / a-Si:H stack layers for solar cell applications
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Passivation property of ultrathin SiOx:H / a-Si:H stack layers for solar cell applications
چکیده انگلیسی
“Illustration of a silicon heterojunction (SHJ) solar cell device using hydrogenated thin oxide as an interfacial passivation layer for the front surface and associated band diagram”.309
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 185, October 2018, Pages 8-15
نویسندگان
, , , ,