کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6533895 | 1420638 | 2018 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Passivation property of ultrathin SiOx:H / a-Si:H stack layers for solar cell applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
“Illustration of a silicon heterojunction (SHJ) solar cell device using hydrogenated thin oxide as an interfacial passivation layer for the front surface and associated band diagram”.309
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 185, October 2018, Pages 8-15
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 185, October 2018, Pages 8-15
نویسندگان
Mickaël Lozac'h, Shota Nunomura, Hitoshi Sai, Koji Matsubara,