کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6534196 | 1420643 | 2018 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SiH4 enhanced dissociation via argon plasma assistance for hydrogenated microcrystalline silicon thin-film deposition and application in tandem solar cells
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: SiH4 enhanced dissociation via argon plasma assistance for hydrogenated microcrystalline silicon thin-film deposition and application in tandem solar cells SiH4 enhanced dissociation via argon plasma assistance for hydrogenated microcrystalline silicon thin-film deposition and application in tandem solar cells](/preview/png/6534196.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 180, 15 June 2018, Pages 110-117
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 180, 15 June 2018, Pages 110-117
نویسندگان
Tiantian Li, Shengzhi Xu, Qian Huang, Huizhi Ren, Jian Ni, Baozhang Li, Dekun Zhang, Changchun Wei, Eleftherios Amanatides, Dimitrios Mataras, Ying Zhao, Xiaodan Zhang,