کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6536345 | 49325 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
H2-CH4 mixed gas plasma treatment on LP-MOCVD ZnO:B for amorphous silicon thin film solar cells
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: H2-CH4 mixed gas plasma treatment on LP-MOCVD ZnO:B for amorphous silicon thin film solar cells H2-CH4 mixed gas plasma treatment on LP-MOCVD ZnO:B for amorphous silicon thin film solar cells](/preview/png/6536345.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 116, September 2013, Pages 231-237
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 116, September 2013, Pages 231-237
نویسندگان
Li Wang, Xiaodan Zhang, Xu Yang, Changchun Wei, Xinliang Chen, Ying Zhao,