کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6536381 | 49325 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Highly textured multi-crystalline silicon surface obtained by dry etching multi-step process
ترجمه فارسی عنوان
سطح سیلیکون چند بافتی بسیار بافتی حاصل از فرایند چند مرحله ای اچینگ خشک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اچینگ خشک سیلیکون چندبلژیک، بافت، بازتاب
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
چکیده انگلیسی
In this work we propose the use of a plasma dry etching technique to condition the morphology of a silicon surface. The low environmental impacted NF3 halogen compound is adopted together with Ar to perform a multi-step process which helps to enhance the silicon surface texturing, thus reducing the time needed for the whole dry etching procedure, which also include saw damage removal on silicon wafers. A detailed study of surface reflectance and etching rate as a function of the dry plasma process parameters is discussed to achieve suitable multi-crystalline silicon surfaces for photovoltaic applications.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 116, September 2013, Pages 283-290
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 116, September 2013, Pages 283-290
نویسندگان
L. Cecchetto, L. Serenelli, G. Agarwal, M. Izzi, E. Salza, M. Tucci,