کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6606015 | 459522 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Tris(trimethylsilyl)phosphate as electrolyte additive for self-discharge suppression of layered nickel cobalt manganese oxide
ترجمه فارسی عنوان
تریس (تریتیلیسیلیل) فسفات به عنوان افزودنی الکترولیتی برای سرکوب خود تخلیه اکسید منگنز کبالت لایه نازک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اکسید منگنز کبالت لایه نیکل، خود تخریب سرکوب، تریس (تریتیلیسیلیل) فسفات، افزودنی الکترولیتی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
چکیده انگلیسی
Application of layered nickel cobalt manganese oxide as cathode under higher potential than conventional 4.2Â V yields a significant improvement in energy density of lithium ion battery. However, the cathode fully charged under high potential suffers serious self-discharge, in which the interaction between the cathode and electrolyte proceeds without potential limitation. In this work, we use tris(trimethylsilyl)phosphate (TMSP) as an electrolyte additive to solve this problem. A representative layered nickel cobalt manganese oxide, LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2, is considered. The effect of TMSP on self-discharge behavior of LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2 is evaluated by physical and electrochemical methods. It is found that the self-discharge of charged LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2 can be suppressed significantly by using TMSP. TMSP is oxidized preferentially in comparison with the standard electrolyte during initial charging process forming a protective cathode interface film, which avoids the interaction between cathode and electrolyte at any potential and thus prevents electrolyte decomposition and protects LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2 from structure destruction.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 212, 10 September 2016, Pages 352-359
Journal: Electrochimica Acta - Volume 212, 10 September 2016, Pages 352-359
نویسندگان
Xiaolin Liao, Xiongwen Zheng, Jiawei Chen, Ziyu Huang, Mengqing Xu, Lidan Xing, Youhao Liao, Qilun Lu, Xiangfeng Li, Weishan Li,