کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6611160 459559 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth Mechanism during the Early Stages of electrodeposition of Bismuth telluride films
ترجمه فارسی عنوان
مکانیسم رشد در مراحل اولیه الکترودهایی فیلمهای تلورید بیسموت
کلمات کلیدی
بیلیسومتری در داخل، هسته، الکترو کریستالیزاسیون، گام های اول الکترو سازگاری، تلورید بیسموت،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی شیمی مهندسی شیمی (عمومی)
چکیده انگلیسی
An optical-electrochemical study on the initial stages of bismuth telluride (Bi2Te3) electrodeposition onto gold substrate is presented in this work. Numerical methods were applied on both electrochemical and optical data to obtain the relevant kinetic parameters from electrocrystallization theoretical equations and ellipsometric models in order to describe this system in the relevant 0-15 seconds range. The in-situ ellipsometry and electrodeposition analysis reveals a three-step mechanism. After an induction time including the double layer charge, the formation of a monolayer of tellurium is highlighted, followed by the adatom surface diffusion. Then, the growth of three-dimensional Bi2Te3 crystallites is observed according a progressive nucleation and a linear growth rate. Experimental and theoretical details about each technique are given and analyzed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 174, 20 August 2015, Pages 376-383
نویسندگان
, , , ,