کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6616168 | 459630 | 2013 | 31 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Role of catalyst concentration on metal assisted chemical etching of silicon
ترجمه فارسی عنوان
نقش غلظت کاتالیزور بر روی فلزکاری اچینگ سیلیکون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
سیلیکون متخلخل، پرداخت فلز اچینگ، کاتالیزور فلزی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
چکیده انگلیسی
- Metal catalyst concentration is the crucial parameter for the metal assisted etching of silicon.
- The amount of metal catalyst on the silicon surface controls the etch rate, etch regime and resulting surface morphology independent of etch solution composition.
- Clear analogy between the catalyst concentration in metal assisted etching and current in electrochemical etching.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 109, 30 October 2013, Pages 333-339
Journal: Electrochimica Acta - Volume 109, 30 October 2013, Pages 333-339
نویسندگان
J. Cichoszewski, M. Reuter, F. Schwerdt, J.H. Werner,